メタルプラズマコーターAT-ET

表示および操作部

特徴

ロータリーポンプを内蔵し卓上型により小スペース化を実現。
簡単操作により排気からコーティング完了まで自動であり、真空度もデジタル表示且つ、低価格
ターゲット:Au Pt Ag Au-Pd In を揃えてろいます。(φ30 t:0.1㎜ 但しInの場合0.5㎜)(別売)
Inを使用される場合、アルゴンガス対応であるAT-ETaをお勧めいたします

仕様

スパッタリング
方式
DCマグネトロンスパッタリング
放電電圧:DC 1500V max
放電電流:DC 10、20、30、40mAから選択
ターゲット(別売)φ30、0.1mm厚のAu、Pt、Ag、Au(8)-Pd(2)及びφ30、0.5mm厚のInが使用可能
使用ガス

Air、Ar(ArはAT-ETAのみ)

到達真空圧8Pa以下
チャンバー内寸φ87mm
試料ホルダーφ70mm
真空排気ロータリーポンプ(10L/min)※内蔵
寸法本体 250W × 370D × 325H
重量本体 約15kg
電源AC 100V 3A

コーティング例

◆凹凸のある試料(ろ紙表面)の撮像例(SEM画像)

  

Target=Pt、倍率x2,000倍
(Air雰囲気 15Pa、デポ時間 45s、印加電流 30mA)

◆試料への熱ダメージ小の撮像例(SEM画像)

バルカーテープの表面観察

Target=Pt、倍率x3,000倍
(Air雰囲気 15Pa、デポ時間 45s、印加電流 30mA)

蒸着膜厚レート

※条件:Target=Pt
※本装置の仕様及びデザイン等は、改良の為予告なく変更されることがありますのでご了承下さい。