本体とダイヤフラムポンプ

ギンブル機構（特許出願済）

タッチパネル操作画面

特徴

全方位揺動（ギンブルモーション）ステージによる回り込みが良いコーティングが可能
完全ドライ排気により試料の汚染防止（ターボ分子ポンプ＋ダイヤフラムポンプ）
Ｃｒ，ＩＴＯ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｐｔ，Ａｕ，Ｍｏ，Ｗ等多種類のターゲット使用可能
特殊シャッター機能により試料の熱損傷抑制
ヘッド数１又は２を選択出来ます

＜オプション＞

プラズマクリーニング（本体オプション）により有機系異物除去・表面親水化処理可能
カーボンコーティングアタッチメント（オプション）によりカーボン被膜生成が可能（現在製作中）

仕様

スパッタリング
方式 		DCマグネトロンスパッタリング
放電電圧：DC 1500V max
放電電流：DC 100mA max
ターゲット(別売) Cr、ITO、Cu、Ni、Pt、Au、Mo、Wなどオプションとして各種ターゲットを用意
使用ガスAir、Ar
到達真空圧10-4Pa以下(スパッタ時1Pa)
チャンバー内寸φ100mm (1ヘッド)、φ127mm (2ヘッド)
試料ホルダーφ50mm (1ヘッド)、φ85mm (2ヘッド)
揺動角度0～20°
真空排気主排気：ターボ分子ポンプ(本体内蔵)
補助排気：ダイヤフラムポンプ(外置き)
寸法本体
　360W×415D×480H (1ヘッド)
　360W×450D×500H (2ヘッド)
ダイヤフラムポンプ
　145W×223D×217H
重量本体 約30kg
ダイヤフラムポンプ 4kg
電源 AC 100V/200V(出荷時選択) 15A
納期 2～2.5ヵ月
※納期相談承ります

コーティング例

◆試料への熱ダメージ対策効果例（SEM像）

バルカーテープの表面観察（クロム膜厚：9 nm、時間 90 s、倍率x2,000倍）

熱ダメージ防止シャッターなし

熱ダメージによる収縮が観察される

熱ダメージ防止シャッターあり

熱ダメージによる収縮が観察されない。

ギンブル動作下で、凹凸のある試料表面上に均一薄膜がつけられます
（下図、ろ紙表面SEM写真）。

クロム（膜厚=3 nm）、
ギンブル30度、倍率x50,000倍

◆ 他社との粒状性能比較　(試料：スライドガラス　倍率：×100,000)

（他社）

（ATA）

◆ コーティング膜粒状性の違い例　(AFM像)

ガラス基板上の膜厚 10nm クロム膜

ガラス基板上の膜厚 9nm 白金膜

粒状が良い状態でCr非晶質膜及び白金再結晶化膜が出来ている事がわかります。

◆ギンブル動作で得られた均一な膜厚分布

🔹ヘッド形状（選択可）

１ヘッドタイプ

２ヘッドタイプ

🔹クリーニング（オプション）

クリーニング機構

※本装置の仕様及びデザイン等は、改良の為予告なく変更されることがありますのでご了承下さい。