特徴

高倍率観察に必要なＣｒ（粉状性）のスパッタが可能
特殊シャッター機能により試料の熱損傷抑制
排気ポンプによる内外へのオイル汚染無し

＜オプション＞

カーボンコーティングアタッチメント（オプション）によりカーボン被膜生成が可能
プラズマクリーニング（本体オプション）により有機系異物除去・表面親水化処理可能

仕様

スパッタリング 方式	DCマグネトロンスパッタリング 放電電圧：DC 1500V max 放電電流：DC 50mA max
ターゲット(別売)	Cr、Pt、Au、Au-Pdなどオプションとして各種ターゲットを用意
使用ガス	Air、Ar
到達真空圧	10-2Pa以下(スパッタ時1Pa)
チャンバー内寸	φ100mm
試料ホルダー	φ50mm
真空排気	主排気：ターボミニポンプ(本体内蔵) 補助排気：ダイヤフラムポンプ(外置き)
寸法	本体 360W × 417D × 380H
重量	本体 約20kg ダイヤフラムポンプ 4kg
電源	AC 100V/200V(出荷時選択) 5A 15A (別売カーボンコーディングアタッチメント)

コーティング例

◆凹凸のある試料（ろ紙表面）の撮像例（SEM画像）

◆ コーティング膜粒状性の違い例（AFM像）

粒状が良い状態でＣｒ非晶質膜および白金再結晶化膜が出来ていることが わかります。

◆試料への熱ダメージ対策効果例（SEM像）

バルカーテープの表面観察（クロム膜厚：9 nm、時間 90 s、倍率x2,000倍）

◆カーボン薄膜のTEM観察像

ガラス基板にカーボンを蒸着させ、真空度の違いによる状態を観察（TEM像）しました。
カーボン蒸着の状態は、雰囲気2Paより雰囲気0.02Paの方が、粒子が細かく着いていることがわかります。
（倍率は200,000倍）

※本装置の仕様及びデザイン等は、改良の為予告なく変更されることがありますのでご了承下さい。